Photoresist-Ultraschall-Beschichtungssystem

Photoresist-Ultraschall-Beschichtungssystem – Cheersonic

Das neue Photoresist-Ultraschallbeschichtungssystem wurde speziell entwickelt, um die einzigartigen Herausforderungen der Beschichtung von MEMS-Wafern mit hohem Aspektverhältnis und Deep-Well-Topographien mit Photoresist zu bewältigen. Cheersonic verfügt über umfangreiches Anwendungs-Know-how bei der Abscheidung von Fotolack auf MEMS- und anderen Halbleiter-Wafer-Substraten.

Das Ultraschallbeschichtungssystem ersetzt herkömmliche Schleuderbeschichtungsanlagen und bietet eine gleichmäßigere Beschichtung der Seitenwände bei schwierig zu beschichtenden Anwendungen. Ultraschall-Spray wird seit Jahren für die Photoresist-Abscheidung verwendet und ist ein bewährtes Verfahren für die Halbleiter-Lithographie-Herstellung.

Unsere Ultraschallbeschichtungslösungen sind umweltfreundlich, effizient und äußerst zuverlässig und ermöglichen eine drastische Reduzierung des Oversprays, Einsparungen beim Rohstoff-, Wasser- und Energieverbrauch und bieten eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit, Übertragungseffizienz, hohe Gleichmäßigkeit und reduzierte Emissionen.

Unser Unternehmen Cheersonic konzentriert sich seit mehr als 20 Jahren auf die Ultraschalltechnologie. Wir bieten eine Reihe von Standard-Ultraschallmaschinen, aber auch kundenspezifische Lösungen für die Funktionsbeschichtungsindustrie, wie z. B. neue Energie, Elektronik, Medizin, Nano usw. Wir freuen uns, mit Unternehmen in der Energiebranche zusammenzuarbeiten, um neue Lösungen für die neue Energieindustrie zu entwickeln und zu erhalten eine Win-Win-Station.

Chinese Website: Cheersonic Provides Professional Coating Solutions