Ultraschall-Sprüh-Fotoresist-Technologie
Ultraschall-Sprüh-Fotoresist-Technologie Ultraschall-Sprüh-Fotoresist-Technologie - Cheersonic Die Photoresist-Abscheidungstechnologie ist eine in der Mikroelektronikfertigung häufig verwendete Technologie, mit der mikroelektronische Komponenten wie Mikroprozessoren, integrierte Schaltkreise und optische Geräte hergestellt werden können. Das Prinzip der Photoresist-Abscheidungstechnologie besteht darin, die lichtempfindlichen Eigenschaften von Photoresist zu nutzen, um Siliziumwafer oder andere Substrate mithilfe einer Photolithographiemaschine mit Photoresist zu beschichten und dann den Photoresist durch Schritte wie Belichtung und Entwicklung in die gewünschte Oberfläche zu [...]