Fotoresist-Sprühsystem
Fotoresist-Sprühsystem Fotoresist-Sprühsystem - Ultraschall-Fotolack-Sprühsystem - Cheersonic Das Ultraschall-Fotolack-Sprühsystem eignet sich hervorragend für die Fotolack-Abscheidung auf MEMs mit hohen Seitenverhältnissen und sorgt für gleichmäßigere Beschichtungen als herkömmliche Schleuderverfahren. Die Wafergrößen reichen von 50 mm Durchmesser bis 300 mm Durchmesser. Die Beschichtungsdicken reichen von 0,5 Mikrometer bis 10 Mikrometer. Auf Kundenwunsch können Schichtdicke und Gleichmäßigkeit zertifiziert werden. Über Cheersonic Cheersonic ist der führende Entwickler und Hersteller von Ultraschallbeschichtungssystemen zum Auftragen [...]

