MEMS-Wafer-Photoresist-Ultraschall-Spritzen
MEMS-Wafer-Photoresist-Ultraschall-Spritzen MEMS-Wafer-Photoresist-Ultraschall-Spritzen - Cheersonic In den letzten zehn Jahren wurden Fotoresistbeschichtungen direkt auf MEMS-Wafer und andere 3D-Mikrostrukturen gesprüht, und die Vorteile der Sprühabscheidung gegenüber der 3D-Topographie wurden ausführlich untersucht. Im Vergleich zur herkömmlichen Schleuderbeschichtung hat die Fotolackbeschichtung durch Ultraschallsprühen Vorteile beim Abscheiden einer gleichmäßigeren Beschichtung, insbesondere auf den Seitenwänden von Gräben mit hohem Seitenverhältnis und V-Nut-Strukturen, die nicht durch Zentrifugalschleudern abgeschieden werden können. Eine gleichmäßige Beschichtung bildet eine [...]