Megasonic Reinigung für Halbleiter
Megasonic Reinigung für Halbleiter Megasonic Reinigung für Halbleiter - Megasonic Reinigung - Cheersonic Megasonic Reinigung ist eine effiziente Reinigungsmethode, die Nanopartikel Verunreinigungen auf der Waferoberfläche entfernen kann. Die Megasonic-Reinigung nutzt Ultraschallenergie auf Megahertz-Niveau, um die Entfernung von Submikron-Partikeln und chemischen Reaktionen auf der Oberfläche von Substraten voranzutreiben. Verglichen mit dem niederfrequenten Ultraschallkavitationseffekt kann der megasonische Kavitationseffekt kleinere Partikel entfernen und Schäden am Substrat erheblich reduzieren. Im Prozess der [...]

