Fotolack Beschichtung
Die Ultraschall-Sprühtechnologie wird zum Beschichten von Halbleiterfotolacken verwendet. Im Vergleich zu herkömmlichen Beschichtungsverfahren wie Schleuderbeschichtung und Tauchbeschichtung hat es die Vorteile einer hohen Gleichmäßigkeit, einer guten Einkapselung von Mikrostrukturen und einer kontrollierbaren Beschichtungsfläche. In den letzten 10 Jahren wurde vollständig gezeigt, dass die 3D-Mikrostruktur-Oberflächen-Photoresistbeschichtung mit Ultraschall-Sprühtechnologie, die hergestellte Photoresistbeschichtung, in Bezug auf Mikrostrukturumhüllung und Gleichmäßigkeit deutlich höher ist als die herkömmliche Schleuderbeschichtung.
Das Ultraschall-Sprühsystem kann die Durchflussrate, die Beschichtungsgeschwindigkeit und das Auftragsvolumen präzise steuern. Die Sprühformung bei niedriger Geschwindigkeit definiert zerstäubtes Sprühen als ein präzises und kontrollierbares Muster, um übermäßiges Sprühen zu vermeiden, wenn eine sehr dünne und gleichmäßige Schicht erzeugt wird. Das Ultraschall-Sprühsystem kann die Dicke von Submikron bis über 100 Mikron steuern und jede Form und Größe beschichten.
ULTRASCHALL-BESCHICHTUNGSTECHNOLOGIEN FÜR PHOTORESISTEN
Das Ultraschall-Photoresist-Beschichtungssystem kann zur Oberflächenbeschichtung von flachen und 3D-Struktursubstraten verwendet werden, einschließlich Siliziumwafern, Glas, Keramik, Metallen und anderen Materialien. Zu den typischen Beschichtungsanwendungen für Fotolacke gehören Wafer, MEMS, Linsen, Mikrofluidik-Chips, Filter und vieles mehr.
- Gleichmäßige Dünnfilmabdeckung verschiedener Oberflächenprofile
- Berührungsloses Sprühen
- Mikroströmungssprühen, mehrere Flüssigfütterungsschemata
- Genauigkeit der Hochgeschwindigkeitssteuerung
- Hohe Flüssigkeitsausnutzung
- Hohe Flexibilität in der Chemikalien- und Beschichtungsleistung
- Verstopfungsfreier Zerstäuber
- Hohe Übertragungseffizienz und minimale Verschwendung
- Hochgradig wiederholbarer ausgereifter Sprühprozess
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