Abscheidung von Metalloxid-Nanopartikeln Abscheidung von Metalloxid-Nanopartikeln – Ultraschallbeschichtung – Cheersonic Nanobeschichtungen sind Beschichtungen oder dünne Filme auf einer festen Oberfläche. Sie spielen eine wichtige Rolle bei der Veränderung von Oberflächeneigenschaften wie Hydrophobizität, Haltbarkeit und Reaktivität. Nanobeschichtungen können mit einer Vielzahl von Techniken sowohl in der Gas- als auch in der Flüssigphase auf eine Oberfläche aufgebracht werden. Beschichtungen, die in Flüssigphasenverfahren hergestellt werden, erfordern im Vergleich zu den Gasphasentechniken [...]

Lithographie der Chipherstellungstechnologie Lithographie der Chipherstellungstechnologie - Fotolackbeschichter - Cheersonic Im Herstellungsprozess von integrierten Schaltkreisen gibt es ein wichtiges Bindeglied - die Lithographie, dank der wir Funktionen auf winzigen Chips realisieren können. Photolithographie ist ein wichtiger Schritt im Herstellungsprozess von Halbleiterbauelementen. Dieser Schritt verwendet Belichtung und Entwicklung, um geometrische Strukturen auf der Fotolackschicht zu skizzieren, und überträgt dann die Muster auf der Fotomaske durch einen Ätzprozess auf das [...]

Beschichtung von Leiterplatten-Flussmittel Beschichtung von Leiterplatten-Flussmittel - Flussmittel-Spray - Cheersonic Das Flussmittel muss so effizient und wirtschaftlich wie möglich auf die Unterseite der Leiterplatte aufgetragen werden. Die Flussmittelbeschichtung sollte gleichmäßig sein und die gelöteten Teile vollständig bedecken. Wenn das Flussmittel im Übermaß verwendet wird, tropft es nicht nur auf den Vorwärmer und verursacht eine Brandgefahr, sondern stellt auch eine große Verschwendung dar und erhöht den Arbeitsaufwand für die [...]

Barrieren der Halbleiter-Siliciumwafer-Industrie Barrieren der Halbleiter-Siliciumwafer-Industrie - Fotolackbeschichter - Cheersonic Die Halbleiterwaferindustrie hat hohe Barrieren, und der First-Mover-Vorteil und der Skaleneffekt sind prominent Technische Barrieren: Die technischen Parameter von Halbleiter-Siliziumwafern sind hochgradig erforderlich, und jede Prozessverbindung muss über einen langen Zeitraum akkumuliert werden. Die Kernprozesse von Halbleitersiliziumwafern umfassen Einkristallverfahren, Schneideverfahren, Schleifverfahren, Polierverfahren, Epitaxieverfahren usw. Die Technologie weist einen hohen Spezialisierungsgrad auf. Unter ihnen ist der Einkristallprozess die Kerntechnologie, [...]

Ultraschall-Sprühpyrolyse für die Herstellung von Nanomaterialien Ultraschall-Sprühpyrolyse für die Herstellung von Nanomaterialien - Cheersonic Derzeit besteht ein Bedarf an einer großmaßstäblichen Produktion von Nanopartikeln, die in der Lage sind, die steigenden Mengen an Nanopartikeln aufzunehmen, die für fortgeschrittene Anwendungen erforderlich sind. Technologien zur Erzeugung von Nanopartikelpulvern und -suspensionen existieren seit mehreren Jahrzehnten und werden kontinuierlich verbessert, während auch neue Ansätze untersucht werden. Ein potenziell zuverlässiges Verfahren für die [...]

Schlüsselmaterialien für Brennstoffzellenstacks Schlüsselmaterialien für Brennstoffzellenstacks - Katalysatorbeschichtungen für Brennstoffzellen - Cheersonic Wasserstoffenergie ist eine wichtige Energiesituation der Zukunft. Seine Energiedichte ist 3-mal so hoch wie die von Öl und 4,5-mal so hoch wie die von Kohle. Es wird erwartet, dass sein Status in Zukunft mit dem der fossilen Ressourcen vergleichbar sein wird. Eine Wasserstoff-Brennstoffzelle ist eine Vorrichtung zur Umwandlung von Wasserstoffenergie, die Wasserstoff als Brennstoff verwendet, um [...]