Photoresist-Ultraschall-Beschichtungssystem
Photoresist-Ultraschall-Beschichtungssystem Photoresist-Ultraschall-Beschichtungssystem - Cheersonic Das neue Photoresist-Ultraschallbeschichtungssystem wurde speziell entwickelt, um die einzigartigen Herausforderungen der Beschichtung von MEMS-Wafern mit hohem Aspektverhältnis und Deep-Well-Topographien mit Photoresist zu bewältigen. Cheersonic verfügt über umfangreiches Anwendungs-Know-how bei der Abscheidung von Fotolack auf MEMS- und anderen Halbleiter-Wafer-Substraten. Das Ultraschallbeschichtungssystem ersetzt herkömmliche Schleuderbeschichtungsanlagen und bietet eine gleichmäßigere Beschichtung der Seitenwände bei schwierig zu beschichtenden Anwendungen. Ultraschall-Spray wird seit Jahren für die Photoresist-Abscheidung verwendet und [...]