Nanosuspensión de pulverización
Los rociadores ultrasónicos son particularmente adecuados para rociar nanosuspensiones debido a la vibración ultrasónica inherente de la boquilla durante la atomización. La energía ultrasónica imparte una vibración mecánica continua a la boquilla, que separa las partículas aglomeradas en la nanosuspensión durante todo el proceso de recubrimiento. Los sistemas de rociado ultrasónico son más simples y rentables que otros métodos de deposición como CVD o deposición de vapor, lo que permite que el rociado a baja velocidad reduzca el exceso de rociado de materiales costosos.
Los sistemas de recubrimiento ultrasónico se utilizan para depositar recubrimientos de nanocapas con un espesor uniforme sobre sustratos de cualquier ancho. Incluso en un ancho amplio, se pueden producir recubrimientos muy delgados con alta uniformidad, lo que hace que la tecnología de rociado ultrasónico sea particularmente adecuada para muchas aplicaciones de rociado de nanotecnología de precisión.
TECNOLOGÍAS DE RECUBRIMIENTO ULTRASÓNICO PARA NANO SUSPENSIÓN
- Deposite nanotubos de carbono (nanotubos de carbono), nanocables, materiales de perovskita y grafeno en una capa delgada y uniforme para reemplazar aplicaciones de energía, electrónica, semiconductores o médicas.
- Rocíe tintas de catalizadores como el negro de carbón y la solución de platino en la fabricación de celdas de combustible
- Use grafeno o nanotubos de carbono para aplicaciones de protección y fortalecimiento
- Varios nanomateriales para blindaje EMI
- Crear una capa conductora transparente
- Deposición de nanocables uniformes o películas de grafeno en aplicaciones electrónicas avanzadas
- Gama completa de boquillas ultrasónicas
- Aleación de titanio y construcción de acero inoxidable, resistencia a la corrosión.
- La boquilla no es fácil de bloquear.
- Utilización> 95%
- La baja presión de desvío puede reducir el desperdicio de recubrimiento y la contaminación del aire.
- Sistema de líquido de dispersión ultrasónica: mantenga la suspensión uniformemente dispersa durante la pulverización
- Pulverización de membrana de intercambio de protones con alta uniformidad y buena adherencia.
- El diámetro de partícula es opcional, lo que puede afectar de manera más flexible la propiedad de orificio pasante del recubrimiento.
- Placa calefactora, placa de vacío o combinación de placa calefactora y placa de vacío
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