Revestimiento de células solares de película delgada
La tecnología de pulverización ultrasónica se considera un proceso eficaz de preparación de recubrimientos de película delgada, que se puede utilizar para la preparación de varias capas funcionales en células solares de película delgada, como el recubrimiento TCO (óxido conductor transparente); Preparación de películas antirreflectantes y antirreflectantes AR; calcio Preparación de capas activas como mineral de titanio, puntos cuánticos, capas tampón o capas orgánicas; y preparación por pulverización de recubrimientos de películas conductoras transparentes como CNT (nanotubos de carbono), nanocables de plata y grafeno. En el proceso de preparación de la capa funcional de la célula solar de película delgada, el cabezal rociador ultrasónico y el dispositivo de atomización pueden recubrir con precisión el precursor o la suspensión sobre la superficie del sustrato.
El costo del sistema de boquillas de atomización ultrasónica es mucho menor que el de los equipos de CVD y pulverización catódica, lo que puede reducir el costo por vatio de la fabricación de células solares de película delgada al mismo tiempo que proporciona una mayor eficiencia de la batería.
TECNOLOGÍAS DE RECUBRIMIENTO ULTRASÓNICO PARA CELDAS SOLARES
- Capas activas: OPV, Perovskita, CIGS, CdTe, CZTS, DSC
- Puntos cuánticos
- Capas amortiguadoras y/u orgánicas
- Capas de TCO: ITO, ZnO (dopado con Ga, Al, In), CdO, SnO2
- CNT/nanocables de plata/grafeno
- Recubrimientos antirreflectantes (AR)
- Gama completa de boquillas ultrasónicas
- Aleación de titanio y construcción de acero inoxidable, resistencia a la corrosión.
- Patrones de rociado limpios y precisos que se moldean fácilmente para diversas aplicaciones
- Utilización> 95%
- La baja presión de desvío puede reducir el desperdicio de recubrimiento y la contaminación del aire.
- Sistema de líquido de dispersión ultrasónica: mantenga la suspensión uniformemente dispersa durante la pulverización
- Pulverización de membrana de intercambio de protones con alta uniformidad y buena adherencia.
- El diámetro de partícula es opcional, lo que puede afectar de manera más flexible la propiedad de orificio pasante del recubrimiento.
- Placa calefactora, placa de vacío o combinación de placa calefactora y placa de vacío
- Aerosol altamente controlable que produce resultados confiables y consistentes
- Aerosol atomizado que no obstruye y que no se desvía
sistema de pulverización
Pirólisis por pulverización ultrasónica
Sistema de revestimiento ultrasónico
Pulverizador inteligente
Máquina de pulverización ultrasónica
Sistema de pulverización ultrasónica
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