A menudo ofrecemos soluciones personalizadas que satisfacen las necesidades de las tecnologías de vanguardia emergentes, como nanotecnología, celdas de combustible de hidrógeno, recubrimientos antimicrobianos, recubrimientos relacionados con la medicina, pirólisis por aspersión, por nombrar algunos.

El equipo ultrasónico de pirólisis por aspersión UAM2000 se utiliza en una amplia variedad de aplicaciones, desde la formación de nanopartículas hasta la deposición de película delgada cristalina. La pirólisis por pulverización ultrasónica se ha utilizado en la formación de nanopartículas de plata, óxido de litio y manganeso, sulfuro de zinc (ZnS), óxido de plomo (PbO), dióxido de circonio (ZrO2) y cerámica de circonio estabilizado con itria (YSZ). Además, la pirólisis por pulverización ultrasónica se utiliza en la formación de capas de óxido conductoras transparentes, como el óxido de indio y estaño (ITO), el óxido de zinc (ZnO), el óxido de aluminio y zinc (AZO) y el óxido de flúor, todos comunes en la industria solar.

Los sustratos calentados suelen estar entre 300 y 500 grados C y este entorno puede dañar el funcionamiento interno de la tecnología ultrasónica convencional. Ofrecemos una boquilla de pulverización ultrasónica de alta temperatura con una punta desmontable extendida que permite insertar la punta ultrasónica en la cámara de reacción, mientras que normalmente aísla o protege el cuerpo de la boquilla ultrasónica del calor. La punta desmontable se puede intercambiar y cambiar por una punta nueva sin tener que reemplazar todo el sistema ultrasónico. Esto es ventajoso para muchos diseños de pirólisis por pulverización ultrasónica, ya que la boquilla ultrasónica normalmente se monta en áreas de difícil acceso.