Sistema de pulverización fotorresistente
Sistema de pulverización fotorresistente Sistema de pulverización fotorresistente - Cheersonic El sistema ultrasónico de rociado de fotorresistencia es especialmente adecuado para la deposición de fotorresistencia en MEM con altas relaciones de aspecto, proporcionando recubrimientos más uniformes que el proceso de centrifugado convencional. Los tamaños de oblea van desde 50 mm de diámetro hasta 300 mm de diámetro. Los espesores de recubrimiento oscilan entre 0,5 micras y 10 micras. [...]